Ls-dAL光源是多通道标准光源,有四种工作模式,具有的动态范围、可连续调节光强度(能够模拟超亮的白天和黑夜)、计算机化设计,可用于测试可见光-短波红外相机(彩色/单色CCD / CMOS / ICCD / EBCCD相机、短波红外相机),用于中/远程监测应用。
工作模式①卤素灯,色温2856K,模拟夜晚和典型的白天②白光LED,色温超过5000K,模拟极亮的白天③镐强度紫外LED,检测抗紫外线的能力
总量度范围10mcd/m2-10kcd/m2–D(白天版本)10μcd/m2-10kcd/m2–DN(白天/夜晚版本)(注:亮度范围可以扩展) 守护每一刻,INFRAMET LAFT 热成像光电测试系统,基数参数精确,安全无忧!上海黑体热成像校准系统
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ORI光学镜头测试系统是一台通用型光学镜头测试系统。该系统可以测量镜头的所有重要参数:MTF,分辨率,EFL,畸变,渐晕,透过率,BFL,工作焦距,焦深,场曲,色差等。可测试波段涵盖了VIS,NIR,SWIR,MWIR和LWIR,也可用于测试多波段光学系统,列如VIS-SWIR和MWIR-LWIR。系统原理ORI测试系统原理:目标发生器放置在被测镜头的焦平面上形成一套投影系统,透射出的平行光入射平行光管,蕞终成像到相机的接收面上。ORI测试系统蕞大的特点是采用逆光路测量原理,较一般正光路的测量系统具有独特的优势。上海黑体热成像校准系统高效校准,Inframet TAIM热瞄准镜和热像仪夹测试系统更稳定,基数参数调整,让监控更智能!

TFEV测温仪测试系统用于检测发热筛查用测温仪。TFEV测试的概念是基于IEC80601-2-59标准中规定的“人体发热筛检测温仪的基本安全性和基本性能的特殊要求”。TFEV是一个模块化系统,可以工作在两种模式:A)手动可调节尺寸的高精度黑体B)电动图像投影系统,能够投射一些参考目标的图像,其温度和大小可变。黑体是模拟人体的不同部位(通常是眼内角或前额),用于测试热敏相机。黑体通常置于被测人体所在平面位置,和测温仪的外部黑体(被测系统的一部分)在实际工作中应该也在该平面上。TFEV是由一系列模块组成的模块化系统:2.黑体适配装置4.MRW-8电动靶轮6.靶轮用一组6个四杆靶标(MRTD测量)8.笔记本电脑10.MB1机械件12.TCB控制程序TYFEV的重点是TCB-4D黑体。它是超高精度面源黑体,可以非常准确地模拟人体的相同发射率。
红外靶标用于测试红外成像系统(热像仪)的红外靶标是通过在金属薄板上加工不同图形的孔而形成不同的靶标。当黑体照射靶标时,被测试的热像仪会观察到在均匀背景下的边界锐利的靶标图形,靶标的温度等同于黑体的温度,我们的用于测试红外热像仪的DT/MS系统采用了一系列相对小尺寸的靶标(直径54mm)用于匹配MRRW-8旋转靶轮,相对大尺寸的红外靶标用于LAFT测试系统。
靶标精度:a)±0.012mm,靶标孔**小尺寸大于0.125mm。b)±10**,靶标孔**小尺寸小于0.125mm。c)±0.001mm,针对刀口靶标线性度(用于MTF测量)。Inframet提供了14种不同类型的标准红外靶标:注意:Inframet标准靶标的有效区域(高发射率涂层覆盖的区域)直径为54mm,Inframet靶标的机械尺寸适用于标准MRW-8靶轮。Inframet可以提供匹配任意生产商制造的靶轮的匹配靶标。 高效热成像,基数参数精确调校,夜间监控更精确!
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靶标是用于测试光电成像系统时创建参考图像的模块。Inframet提供的靶标可分为两类:1)无源靶标,2)有源靶标。无源靶标需要由黑体或标定光源产生均匀光束照射,生成参考图像模式的图像。这些靶标通常是大型测试系统位于平行光管焦平面的小模块。无源靶标的工作不需要电力供应。
版本型号:FUT以下列不同标准尺寸的形式提供:FUT118:辐射源尺寸1100x800mm(11x8个100mm大小正方形区域);FUT1511:辐射源尺寸1500x1100mm(15x11个100mm大小正方形区域);FUT2020:辐射源尺寸1900x1900mm(19x19个100mm大小正方形区域);FUT2216:辐射源尺寸2200x1600mm(22x16个100mm大小正方形区域)。还可以定制化交付不同尺寸和图案的定制化FUT靶标。 热成像新标准,基数参数精细调校,让夜间监控成为您的安全之眼!上海黑体热成像校准系统
高效能热成像,基数参数精细调校,夜视能力再升级!上海黑体热成像校准系统
在国际市场提供的典型面源黑体(包括Inframet提供的TCB/MTB黑体)被优化,以模拟在常用的红外辐射光谱带中的黑体目标:约1μm至约15μm。这种黑体的发射面的高发射率是通过温度受控的金属板,与其涂覆的高吸收性涂料薄层来实现。由于这种黑体的发射率在波长约0.1mm处开始下降,并且在波长超过约1mm变得非常低,所以典型的面源黑体不能用于模拟THz带(0.1mm至1mm)和亚THz带(1mm至10mm的波长)的黑体目标温度。在典型的红外黑体中使用的高辐射率涂层对于太赫兹光学辐射而言变得部分半透明,特别是在长波处大约0.5mm。上海黑体热成像校准系统
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