上海高分辨率无掩膜光刻无掩光刻 纳糯三维科技供应

QuantumXshape作为理想的快速成型制作工具，可实现通过简单工作流程进行高精度和高设计自由度的制作。作为2019年推出的头一台双光子灰度光刻(2GL®)系统QuantumX的同系列产品，QuantumXshape提升了3D微纳加工能力，即完美平衡精度和速度以实现高精度增材制造，以达到高水平的生产力和打印质量。总而言之，工业级QuantumX打印系统系列提供了从纳米到中观尺寸结构的非常先进的微制造工艺，适用于晶圆级批量加工。高速3D微纳加工系统QuantumXshape可实现出色形状精度和高精度制作。这种高质量的打印效果是结合了特别先进的振镜系统和智能电子系统控制单元的结果，同时还离不开工业级飞秒脉冲激光器以及平稳坚固的花岗岩操作平台。QuantumXshape具有先进的激光焦点轨迹控制，可操控振镜加速和减速至特别快的扫描速度，并以1MHz调制速率动态调整激光功率。Nansocribe公司的无掩模光刻系统，采用一种全新的方式解决了制造并集成3D微纳结构到2D微流体通道的问题 。上海高分辨率无掩膜光刻无掩光刻

Nanoscribe双光子聚合技术所具有的高设计自由度，可以在各种预先构图的基板上实现波导和混合折射衍射光学器件等3D微纳加工制作。结合Nanoscribe公司的高精度定位系统，可以按设计需要精确地集成复杂的微纳结构。由Nanoscribe研发的IP系列光刻胶是用于特别高分辨率微纳3D打印的标准材料。所打印的亚微米级别分辨率器件具有特别高的形状精度，属于目前市场上易于操作的“负胶”。IP树脂作为高效的打印材料，是Nanoscribe微纳加工解决方案的基本组成部分之一。我们提供针对优化不同光刻胶和应用领域的高级配套软件，从而简化3D打印工作流程并加快科研和工业领域的设计迭代周期，包括仿生表面，微光学元件，机械超材料和3D细胞支架等。上海高分辨率无掩膜光刻无掩光刻Nanoscribe的Quantum X打印系统的无掩模光刻解决方案可以满足衍射光学元件所需的横向和纵向高分辨率要求。

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D无掩模光刻技术，用于快速，精度非常高的微纳加工，可以轻松3D微纳光学制作。可以搭配不同的基板，包括玻璃，硅晶片，光子和微流控芯片等，也可以实现芯片和光纤上直接打印。我们的3D微纳加工技术可以满足您对于制作亚微米分辨率和毫米级尺寸的复杂微机械元件的要求。3D设计的多功能性对于制作复杂且响应迅速的高精度微型机械，传感器和执行器是至关重要的。基于双光子聚合原理的激光直写技术，可适用于您的任何新颖创意的快速原型制作

借助Nanoscribe双光子聚合技术特殊的高设计自由度和高精度特点，您可以制作具有微米级高精度机械元件和微机电系统。欢迎探索Nanoscribe针对快速原型设计和制造真正高精度的微纳零件的3D微纳加工解决方案。Nanoscribe的双光子灰度光刻激光直写技术(2GL®)可用于工业领域2.5D微纳米结构原型母版制作。2GL通过创新的设计重新定义了典型复杂结构微纳光学元件的微纳加工制造。该技术结合了灰度光刻的出色性能，以及双光子聚合的亚微米级分辨率和灵活性。PhotonicProfessionalGT2是目前全球精度达到上限的微纳3D打印机。该设备将双光子聚合的极高精度技术特点与跨尺度的微观3D打印完美结合，适合用于纳米、微米、中尺度以及厘米级别的快速成型。PhotonicProfessionalGT2双光子无掩模光刻系统可适用于科研和工业领域应用Nanoscribe的无掩模光刻系统在三维微纳制造领域是一个不折不扣的多面手。

由欧盟委员会及欧盟“地平线2020“计划（Horizon2020）资助的HandheldOCT项目于2020年初正式启动。祝贺Nanoscribe成为该项目成员之一。这个由多所大学，研究机构以及公司的科学家们和工程师们所组成的联合项目致力于开发一种用于眼科检查的便携式可移动成像设备。基于低成本和小型化特点的集成光子芯片技术，该项目有望将光学相干断层扫描（OCT）从局限的眼科临床应用带入更广的眼科护理移动应用中来。由维也纳医科大学牵头的HandheldOCT研究项目旨在运用成熟的光学相干断层扫描成像技术（OCT），来实现便携式现场即时眼科护理检查。预计此款正在开发的具备先进技术和成本效应的便携式集成光子芯片技术OCT成像设备将用于诊断和监测多种眼部疾病，例如，老年性黄斑病变、糖尿病性视网膜病变以及青光眼，这些疾病在世界范围内都是导致失明的主要因素。该便携式设备将会在维也纳总医院进行测试以验证其在眼科诊断的效果。Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技（上海）有限公司邀您一起探讨无掩膜光刻系统的发展。上海高分辨率无掩膜光刻无掩光刻

Nanoscribe的Photonic Professional GT2提供世界上特别高分辨率的3D无掩模光刻技术。上海高分辨率无掩膜光刻无掩光刻

Nanoscribe的PhotonicProfessional设备可用于将不同折射率的龙勃透镜和其他自由形状的光学组件打印于微孔支架材料上（例如孔状硅材及二氧化硅）。突出特点是不再像常规的双光子聚合（2PP）那样在基体表面进行直写，而是在孔型支架内。通过调整直写激光的曝光参数可以改变微孔支架内材料的聚合量，从而影响打印材料的有效折射率。采用全新SCRIBE技术（通过激光束曝光控制的亚表面折射率）可以在保证亚微米级别的空间分辨率同时，对折射率的调节范围甚至超过0.3。为了证明SCRIBE新技术的巨大潜力，科研人员打印了众多令人瞩目的光学组件，例如已经提到的龙勃透镜。此外科研人员还打印了消色差双合透镜（如图示）。通过色散透镜聚焦的光因波长不同焦点位置也不尽相同。通过组合不同折射率的透镜可帮助降低透镜的色差。在给出的例子中，成像中的荧光强度和折射率高度相关，同时将打印的双透镜中的每个单独透镜可视化。上海高分辨率无掩膜光刻无掩光刻

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