上海微纳米3D打印无掩膜激光直写 纳糯三维科技供应

为了进一步提升技术先进性，科研人员又在新材料研发的过程中发现了巨大的潜力。一方面，上海微纳米3D打印无掩膜激光直写，利用SCRIBE新技术的情况下，高折射率的光刻胶可进一步拓展对打印结构的光学性能的调节度。另一方面，低自发荧光的可打印材料非常适用于生物成像领域。Nanoscribe公司的IP系列光刻胶，例如具有高折射率的IP-n162和具有生物相容性和低自发荧光的IP-Visio已经为接下来的研究提供了进一步的可能，上海微纳米3D打印无掩膜激光直写，上海微纳米3D打印无掩膜激光直写。为了证明SCRIBE新技术的巨大潜力，科研人员打印了众多令人瞩目的光学组件，例如已经提到的龙勃透镜。此外科研人员还打印了消色差双合透镜（如图示）。通过色散透镜聚焦的光因波长不同焦点位置也不尽相同。通过组合不同折射率的透镜可帮助降低透镜的色差。更多关于Nanoscribe微纳米3D打印的内容，请致电Nanoscribe中国分公司纳糯三维科技（上海）有限公司。上海微纳米3D打印无掩膜激光直写

Nanoscribe作为一家纳米，微米和中尺度高精度结构增材制造**，一直致力于开发和生产3D微纳加工系统和无掩模光刻系统，以及自研发的打印材料和特定应用不同解决方案。Nanoscribe成立于2007年，是卡尔斯鲁厄理工学院(KIT)的衍生公司。在全球前列大学和创新科技企业的中，有超过2,500多名用户在使用我们突破性的3D微纳加工技术和定制应用解决方案。Nanoscribe凭借其过硬的技术背景和市场敏锐度奠定了其市场优于主导地位，并以高标准来要求自己以满足客户的需求。上海超高速3D打印系统长远来看，3D打印会颠覆传统制造，实现服务的规模化，属于产业颠覆。

QuantumXshape作为理想的快速成型制作工具，可实现通过简单工作流程进行高精度和高设计自由度的制作。作为2019年推出的头一台双光子灰度光刻(2GL®)系统QuantumX的同系列产品，QuantumXshape提升了3D微纳加工能力，即完美平衡精度和速度以实现高精度增材制造，以达到高水平的生产力和打印质量。总而言之，工业级QuantumX打印系统系列提供了从纳米到中观尺寸结构的非常先进的微制造工艺，适用于晶圆级批量加工。作为全球头一台双光子灰度光刻激光直写系统，QuantumX可以打印出具有出色形状精度和光学质量表面的高精度微纳光学聚合物母版，可适用于批量生产的流水线工业程序，例如注塑，热压花和纳米压印等加工流程，从而拓展微纳加工工业领域的应用。2GL与这些批量生产流水线工业程序的结合得益于新技术的亚微米分辨率和灵活性的特点

随着科技的不断进步，微纳米3D打印技术正逐渐成为制造业的新宠。这项技术通过将材料逐层堆叠，以精确的方式打印出微小的物体，为制造业带来了巨大的变革和发展机遇。微纳米3D打印技术的优势在于其高精度和高效率。相比传统制造方法，微纳米3D打印技术能够实现更精细的打印，使得产品的质量和精度得到了极大提升。同时，由于打印过程是逐层进行的，因此可以同时打印多个产品，提高了生产效率。这项技术在各个领域都有广泛的应用前景。在医疗领域，微纳米3D打印技术可以用于打印人体组织，为患者提供更好的治疗方案。在航空航天领域，微纳米3D打印技术可以用于打印轻量化的零部件，提高飞行器的性能和燃油效率。在电子领域，微纳米3D打印技术可以用于打印微小的电子元件，为电子产品的制造提供更多可能性。长远来看，3D打印将颠覆传统制造，实现大规模的个性化服务提供。

QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系统，用于快速原型制作和晶圆级批量生产，以充分挖掘3D微纳加工在科研和工业生产领域的潜力。该系统是基于双光子聚合技术（2PP）的专业激光直写系统，可为亚微米精度的2.5D和3D物体的微纳加工提供极高的设计自由度。QuantumXshape可实现在6英寸的晶圆片上进行高精度3D微纳加工。这种效率的提升对于晶圆级批量生产尤其重要，这对于科研和工业生产领域应用有着重大意义。全新QuantumXshape作为Nanoscribe工业级无掩膜光刻系统QuantumX产品系列的第二台设备，可实现在25cm²面积内打印任何结构，很大程度推动了生命科学，微流体，材料工程学中复杂应用的快速原型制作Nanoscribe于2018年推出了用于微加工和无掩模光刻的Photonic Professional GT2 3D打印机。上海高精度3D打印三维微纳米加工系统

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这种集成复杂3D结构于传统平面微流控芯片的全新方式为微纳加工制造打开了新的大门。布鲁塞尔自由大学的光子学研究小组（B-PHOT）的科学家们正在通过使用Nanoscribe双光子聚合技术（2PP）将光波导漏斗3D打印到光纤末端上来攻克将具有不同模场几何形状的两个元件之间的光束进行高效和稳健耦合这个难题。这些锥形光束漏斗可调整SMF的模式场，以匹配光子芯片上光波导模式场。Nanoscribe的2PP技术将可调整模场的锥形体作为阶跃折射率光波导光束。上海微纳米3D打印无掩膜激光直写

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