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对于半导体行业来说，圆晶测量和缺陷检测都是半导体生产的关键环节，检测和控制生产中的每一步生产质量。为了显微测量，马波斯提供2D光谱共焦线扫相机。在超高分辨率和超大景深应用中，可在Z轴上准确聚焦。因此，这是检测圆晶缺陷的理想选择，例如，圆晶沿的检测和封装期间的检测。这些传感器都允许集成在测量和检测设备中。马波斯和STIL在数十年的发展中积累了丰富的经验，可为用户提供量身定制解决方案和的光学设计。马波斯的小横向分辨率为0.4μm*0.4μm，大倾斜角为+/-45°，0.75数值孔径。涡流探测（EC）是一系列无损技术（NDT），用于检查被测组件的表面质量和材料特性。上海电机检测设备厂家
Optoflash具有以下特点。一、易于使用简单直观的用户界面降低了操作人员培训的成本。智能结果显示、工件细节图像、图形设置等各项功能一应俱全。任何人员都能轻松使用Optoflash测量系统，并能对新的测量数据进行设置。二、新功能在测量数据存档后，操作人员可利用智能搜索功能，通过图像和统计趋势显示查看零件的详细信息。三、高级设置的柔性测量系统能够通过简单的操作满足各种应用要求。除此之外，Optoflash测量系统配备了马波斯软件用户界面。上海电机检测设备厂家20多年的经验和安装的多个系统，使e.d.c.能够100%识别缺陷，甚至是潜在缺陷。
Optoflash具有2D图像相机的结构，为轴类件光学测量行业设定了新的标准，对测量操作来讲是很重要的优势。通孔测量：通孔测量的时间只在毫秒之间，而且结果更加准确。无以伦比的测量速度动的设计。完全的2D，基于不需要光学结构。另外。Optoflsh具有2D图像的连续性，完整的轮廓和工件图像都可以在一张照片中采集，所以可以尽可能大的获取数据，减少机械误差。同时，Optoflsh具有轴向端面跳动，2D图像的算法，使得整个端面的表面都可以在每个旋转角度都被动态扫描出。所以Optoflash测量轴向端面跳动的结果比传统线扫描光学设备的更好。通孔测量的时间只在毫秒之间，而且结果更加准确。
泄漏检测是电芯生产中的必要工序，尤其是对新一代锂离子电芯来说，更是如此。电解液通常含易燃溶剂，如果与空气中的水分接触，会产生有害物质。为了避免电解液的泄漏，必须保证电芯的充分密封。此外，还需避免水分或其它外部污染物进入电芯内而影响电芯的正常工作。在传统的电芯生产线上，一般会使用氦气作为示踪气体来检测泄漏，但该方法只能用于在电芯尚未完全密封的阶段使用，或是在注液期间充入氦气并将氦气封存在电芯内，然而这种方法会影响生产工艺，也并不适用于所有类型的电芯。然而电解液示踪技术可在生产过程EOL阶段检测电芯泄漏情况，即在电芯注液并密封后进行检测。涡流探测的重要优点包括操作员不需要检查并确定零件是完好的还是已经报废，因此消除了人为错误。
在半导体的生产环节中，圆晶减薄是其中一个关键的生产环节。实际上，由于芯片已在圆晶上成形，减薄操作的任何失误都可能影响芯片成品率和成本。在减薄加工中，可用接触式或非接触式传感器测量，甚至可在去离子水中测量，进行严格在线控制。马波斯传感器甚至可检测到砂轮与圆晶接触的瞬间或检查任何过载。另外，马波斯传感器可控制的厚度从4µm到900µm（单侧测量），智能处理厚度数据，可正常控制超薄厚度和记录数据（黑盒功能）。局部放电绝缘测试是一种更复杂的技术，对外部电磁干扰不敏感，因此更适合在生产环境中使用。上海电机检测设备厂家
马波斯集团Hetech品牌一直致力于泄漏检测系统领域的研究，也是这一崭新市场生产商的有力合作伙伴。上海电机检测设备厂家
MARPOSS累积室中的氦气对电池PACK进行泄漏测试,该技术在此漏率范围内取得了非常好的测试结果，并且方案简单可靠。通过空气泄漏测试方法（压降法或质量流量法）检查组装好的冷却回路。检测泄漏精度高达10-4SCC/sec该方法不受待测产品和环境温度影响适用于大体积和外壳会变形的产品的测试测试节拍可优化，不受密封边长短的影响按照客户的规格要求定制方案或通用化的解决方案结构坚固。另外，全自动方案或手动上料方案、高可靠性低、使用成本检测泄漏、精度高达10-4SCC/sec都是该测试的优势。上海电机检测设备厂家
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