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黑体辐射在我国的研究，1998年，在**计量科研课题的研究中，**在基于等温和漫反射的基础上，应用辐射换热原理，导出了黑体发射率全新的计算公式，从理论上证明了只要黑体腔内表面温度均匀且为漫反射，黑体的发射率只与黑体的腔口面积与内表面面积之比、黑体腔内表面发射率有关，而与黑体的形状、黑体的温度无关，系统阐述了黑体发射率的理论，使得对黑体发射率理论的研究，向前迈进了一步，同时对于黑体的研制和生产，有着极大的指导意义。 对于腔式黑体，也是一个逐步发展过程。从开始研制出雏形黑体，到开始重视形腔比，上海面源黑体炉厂家定价，因此改进黑体腔按照一定的形腔比设计，将黑体的性能进行提高；到开始重视黑体的等温段，上海面源黑体炉厂家定价，上海面源黑体炉厂家定价，尽量提高黑体的等温区域，将黑体的性能进一步提高；应用黑体发射率的理论计算公式指出的改进途径，使黑体的性能又得到提高；这就是一个不断发展和不断完善的过程。面源黑体炉的操作规范。上海面源黑体炉厂家定价

标准面源黑体辐射源

面源黑体辐射源是红外辐射工作标准，广泛应用在红外探测器的研制过程中的工艺测试和鉴定试验的技术指标测试中，可以完成红外焦平面器件光敏面响应均匀性，响应曲线和死元象素等参数的测试中。 同时，面源黑体辐射源作为红外成像棱准装置的设备，配合红外准直光学系统和红外靶标，完成红外成像系统等关键技术指标测试和性能评估。可以满足我国Z新研制的红外成像制导武器中红外成像器的测试需求，可以满足广泛应用于医疗、建筑、安全监控、环境检测等行业红外热像仪的测试需求。 上海面源黑体炉材料工业使用面源黑体炉。

黑体的作用

红外辐射源HT-S150 黑体为面源黑体（热电控制）的温度调节范围为05℃到+500℃

黑体的典型特征为0.1的完美温度分辨率，可到0.1的温度稳定性以及典型为0.97 可选0.99 的发射率。

发射口径可以从150mmX150mm到600x600mm。HT-S型黑体用于**或者超**应用，如测试制冷

型斯特林红外热像仪，计量标准或者科研项目。

HT-L型黑体是HT系列黑体的特护设计版本设计于扩展温度范围到-40℃。

HT 系列黑体是超高精度的面源黑体优化适用于模拟中温目标。

辐射器的温度由薄的面源加热单元控制，黑体辐射器的温度的调节范围为50℃到550℃，根据不同的类型辐射面尺寸范围为50X50mm 到600X600mm。

HT-S系列 黑体是一台商业的高发射率，工作在THz 及全THz 光谱范围的大面型带宽黑体，HT-S黑体由上海芸尖智能科技公司设计生产并进行了多年的实验与验证，HT-S系列体的设计基于优化工作在 THz 范围的特殊的浇筑吸收涂层，以及大的热均匀辐射器与超高精度电子控制系统组成。

校准红外热成像仪用黑体辐射源的原因？

人们使用黑体已经有70余年的时间了，用黑体为实验室与野外测试提供辐射源作为标准参考依据。之后的一段时间，用黑体辐射源测定与检验热成像仪的工作参数。在实际的应用中，近几十年，黑体源作为参数依据，其整体性并没有出现太大的变化，但是红外热成像仪却发展的很快．热像仪的校准要求黑体从单个的形式变为陈列分布，从—维向二维变化。黑体再不是以单个的形式出现，而是—个陈列，并且灵敏度的要求也上了几个数量级。

黑体是用于标定红外系统的基准源，它的光谱能量是可以通过计算而获得，是工业、实验室、科研、**用来标定红外点式测温仪、线型扫描测温仪、热成像仪的标准源。在**领域，可以作为整套光电测试系统的一部分。

常用黑体辐射源，用数字显示文控器来控制辐射源温度，可在环境温度与1000℃范围内任意设置黑体辐射温度。精密热电阻、热电偶装在黑体辐射源的内部，能提高黑体的精度和重复性。利用PID温控器使用黑体辐射温度分辨率达到比较高0.1℃，黑体辐射源使用了耐热而性能稳定的保湿材料，具有寿命长、温度稳定快的特点。其内部结构设计紧凑，便于携带，使用方便，是温度测量仪器进行温度校准的较理想的目标源。

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黑体炉在温度计量和光学领域发挥的作用

黑体炉能全部吸收外部的辐射能量，同时能全部辐射出自身全部能量的物体。因此在温度计量中主要用于检定各种辐射温度计，如光学高温计、红外温度计、红外热像仪等。

不同的用途对黑体炉的要求是不一样的。黑体的用途已经不局限于在温度计量方面的应用。在光学方面，已经普遍采用黑体作为标准辐射源和标准背景光源。在测量领域里，黑体已经用于测量材料的光谱发射、吸收和反射特性。在高能物理的研究中，黑体已经用作为产生中子源。

  在温度计量领域，主要是利用黑体辐射和温度的对应关系，因此要求黑体的发射率越高越好。要求黑体的辐射能量按照光谱分布（也就是黑体光谱辐射能量、也称为单色能量）都能符合普朗克定律，这样我们在检定或校准辐射温度计时，以黑体的温度（或标准辐射温度计）的示值，来修正辐射温度计的偏差。因此在选择黑体时通常是选择发射率较高的腔式黑体，同时也要注意黑体腔口直径，温度均匀性和辐射温度不确定度。

  在光学应用中，通常要求辐射源的辐射面积较大，但是温度不高，只关注辐射面的温度均匀性而不一定关注辐射能量与温度对应的准确性，因此选择面源黑体较多。

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HT-L系列低温面源黑体被设计用于需要低温的应用中。此系列黑体在无控温的实验室环境中就可以达到-50℃低温。在探测器的泛光照射模式测试中，HT-L系列黑体可以代替昂贵而笨重的环境试验箱来产生冷背景。循环制冷机利用合适的冷却液将黑体散热端冷却到一定温度，然后由精密的电子控制系统和热电制冷器精确地控制黑体辐射面到用户设置的温度点。HT-L系列黑体包含黑体源、制冷机、温度控制器、连接线缆和冷却液管路。它的操作方法是很简单直观的，保养也是非常容易的。HT-L是一款物美价廉容易使用的低温面源黑体解决方案。HT-L系列都是高发射率涂层。（发射率:>0.998）上海面源黑体炉厂家定价

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