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上海实验室增材制造3D微纳加工 纳糯三维科技供应

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所在地: 上海市
***更新: 2024-10-02 01:26:59
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产品详细说明

QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系统,用于快速原型制作和晶圆级批量生产,以充分挖掘3D微纳加工在科研和工业生产领域的潜力。该系统是基于双光子聚合技术(2PP)的专业激光直写系统,可为亚微米精度的2.5D和3D物体的微纳加工提供极高的设计自由度。QuantumXshape可实现在6英寸的晶圆片上进行高精度3D微纳加工。这种效率的提升对于晶圆级批量生产尤其重要,这对于科研和工业生产领域应用有着重大意义。它作为理想的快速成型制作工具,可实现通过简单工作流程进行高精度和高设计自由度的制作。作为2019年推出的头一台双光子灰度光刻(2GL®)系统QuantumX的同系列产品,QuantumXshape提升了3D微纳加工能力,即完美平衡精度和速度以实现高精度增材制造,以达到高水平的生产力和打印质量。总而言之,工业级QuantumX打印系统系列提供了从纳米到中观尺寸结构的非常先进的微制造工艺,适用于晶圆级批量加工。增材制造需求,欢迎咨询纳糯三维科技(上海)有限公司.上海实验室增材制造3D微纳加工

上海实验室增材制造3D微纳加工,增材制造

全新GlassPrintingExplorerSet是Nanoscribe公司推出的头一个用于熔融石英玻璃微纳结构3D微纳加工的商用高精度增材制造工艺和材料。新型光刻胶GP-Silica是GlassPrintingExplorerSet的中心内容,也是世界上只有的一款用于熔融石英玻璃微纳加工的光刻胶。这种打印材料因其高光透性,出色的热稳性,机械性能和化学稳定性脱颖而出。这为探索生命科学,微流控,微纳光学,材料工程和其他微纳技术领域的新应用开辟了更多可能性。TheGlassPrintingExplorerSet拓宽了注重耐高温特性,化学和机械稳定性以及光透性的高精度3D微纳加工应用。双光子聚合技术(2PP)的高精度结合熔融石英玻璃的出色玻璃性能,推动者生命科学,微流控,微纳光学及其他领域新应用的发展和探索。“尽管所需的后期热处理要求很高,GP-Silica在我们研究制造复杂的微流体系统方面具有巨大的潜力。”瑞士弗里堡大学工程与建筑学院助理教授兼图像打印系主任NicolasMuller博士总结道。借助Nanoscribe双光子聚合技术特殊的高设计自由度和高精度特点,您可以制作具有微米级高精度机械元件和微机电系统。欢迎探索Nanoscribe针对快速原型设计和制造真正高精度的微纳零件的3D微纳加工解决方案。上海微流道增材制造无掩膜激光直写增材制造技术可用于生产复杂结构,传统制造无法达到。

上海实验室增材制造3D微纳加工,增材制造

随着各行各业的发展及科技的进步,人们可以用3D打印创建在人体内传导药物的载体,可以用3D打印来建造房子。人们还可以用3D打印创作出精美的珠宝首饰和设计,甚至可以用这项技术做出巨大的艺术雕塑。Nanoscribe公司专注于微观3D打印技术,而全新推出的QuantumX平台新型高速无掩模光刻技术主要是基于Nanoscribe双光子灰度光刻技术(2GL®)。该技术将灰度光刻的优异性能与双光子聚合的精确性和灵活性完美结合,使其同时具备高速打印,完全设计自由度和超高精度的特点。从而满足了**复杂增材制造对于优异形状精度和光滑表面的极高要求。这种具有创新性的增材制造工艺缩短了企业的设计迭代,打印样品结构既可以用作技术验证原型,也可以用作工业生产上的加工模具。

增材制造技术能够简化光学器件的制造流程,缩短交货期并降低材料消耗。更重要的是,增材制造技术能够实现功能集成的优化设计方案,尤其在卫星光学系统制造领域,增材制造技术能够满足用户对轻型光学系统不断增长的需求,并实现下一代高附加值光学器件的制造。通过增材制造技术开发的下一代光学仪器中,将越来越多采用紧凑的功能集成设计,如集成隔热,冷却通道,局限的机械和热接口,以及将光学功能作为设备自身结构的一部分。紧凑集成化设计减少了组件装配过程中出现问题的风险,同时开辟了制造冷却光学系统,有源光学系统或自由曲面的新方式。陶瓷增材制造技术的净成形能力,还能够提高准确性,改善集成/结合过程的质量。在成就高附加值零件方面,3D打印的应用还包括很多,除了打印极度复杂的结构、打印混合材料,3D打印因为技术种类繁多也带来了高附加值零件的创新空间,例如3D打印感应器、3D打印多层电路、3D打印电池等等。Nanoscribe作为全球纳米制造和精密制造用高精度3D打印制造商,在科研和工业领域有众多用户,包括哈佛大学纳米系统中心,加州理工学院,伦敦帝国理工学院,苏黎世联邦理工大学等。想要了解增材制造和传统减材制造的区别,请咨询Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技(上海)有限公司。

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QuantumX新型超高速无掩模光刻技术的中心是Nanoscribe独有的双光子灰度光刻技术(2GL®)。该技术将灰度光刻的出色性能与双光子聚合的精确性和灵活性完美结合,使其同时具备高速打印,完全设计自由度和超高精度的特点。从而满足了高级复杂增材制造对于优异形状精度和光滑表面的极高要求。这种具有创新性的增材制造工艺很大程度缩短了企业的设计迭代,打印样品结构既可以用作技术验证原型,也可以用作工业生产上的加工模具。另外,Nanoscribe双光子灰度光刻微纳打印系统技术要点,这项技术的关键是在高速扫描下使激光功率调制和动态聚焦定位达到精细同步,这种智能方法能够轻松控制每个扫描平面的体素大小,并在不影响速度的情况下,使得样品精密部件能具有出色的形状精度和超光滑表面。该技术将灰度光刻的出色性能与双光子聚合的精确性和灵活性*结合,使其同时具备高速打印,完全设计自由度和超高精度的特点。从而满足了高级复杂增材制造对于优异形状精度和光滑表面的极高要求。Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技(上海)有限公司为您讲解增材制造的基本原理、优缺点及具体方法。上海实验室增材制造3D微纳加工

激光增材制造是一种高效、精确的制造技术。上海实验室增材制造3D微纳加工

虽然半导体行业一直在使用3D打印技术,我们可能会有一个疑问,为什么我们没有听说,一个因素是竞争。如果全球只有四个庞大的大型公司,它们构成了光刻或制造机器的主要部分,那么这些公司并没有告诉外界关于他们应用3D打印技术的内幕,因为他们想确保的竞争优势。至少,对外界揭示其优化设备性能的技术,这种主观动机并不强。增材制造改善半导体工艺是多方面的,从轻量化,到随形冷却,再到结构一体化实现,根据3D科学谷的市场观察,增材制造使得半导体设备中的零件性能迈向了一个新的进化时代!在许多情况下,3D打印-增材制造可能使这些系统能够更接近理论上预期的工作环境,而不是在机器操作上做出妥协。上海实验室增材制造3D微纳加工

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