偏光片关键层-PVA PVA膜 (PolyvinylAlcohol)全称聚乙烯醇薄膜,其组分主要是碳氢氧等轻原子,因此具有高透光和高延展性等特点。PVA分子本来是任意角度无规则性分布的,PET相位差测试仪,在一定温度和湿度条件下,受力拉伸后就逐渐偏转于作用力方向,趋向于成直线状分布。 拉伸后的PVA分子沿拉伸方向直线排列,拉伸膜相位差测试仪,吸附在PVA层上的染料分子也跟随着有方向性的偏转,江苏补偿膜光轴角相位差测试仪厂家直销,形成或染料分子的长链。因为碘离子(或染料分子)有很好的起偏性,江苏补偿膜光轴角相位差测试仪厂家直销,它可以吸收平行于其排列方向的偏振光,金华相位差测试仪,只让垂直方向的偏振光通过,江苏补偿膜光轴角相位差测试仪厂家直销,利用这样的原理就可制造偏光膜。对应样品尺寸:可定制。江苏补偿膜光轴角相位差测试仪厂家直销
相位差测试仪测试小科普:
1.Q:轴角度是吸收轴角度吗?
A:否。①吸收轴角度,是指透过光线在某一方向呈现吸收状态(透光率比较低),此光轴跟基准边的夹角。通常同偏光轴(透过轴)垂直相交。 ②轴角度定义适用于双折射样品(产生相位差的样品),在国际上普遍定义为慢轴与基准边的夹角。
2. Q:配向角(取向角)是指轴角吗?
A:否。配向角是轴角在垂直方向的投影。当水平放置样品时,配向角=轴角。当样品倾斜时,配向角会随着样品的翻转而变化,所以在测量配向角时候,需要知道样品与水平面的夹角。
江苏补偿膜光轴角相位差测试仪厂家直销轴角度精度精度业内比较高。
光谱仪参数
探测器类型: HAMATSU光电二极管阵列
像素点: 2048
光栅: 全息平场凹面衍射光栅
狭缝: 可选择狭缝宽度(25um、50um、100um、200um)
光谱范围: VIS:400--800nm
UV-VIS:190--800nm
光学分辨率: VIS:1.5nm(100um狭缝)
UV-VIS:1.5nm(100um狭缝)
波长精度: ±0.2nm
光谱杂散光: <0.05%(400nm)
信噪比: 2000:1
AD分辨率: 16bit
积分时间: 0.1ms--60s
供电: 5V/220mA
通讯接口: USB2.0(480Mbps)
解析多层相位差:相位差(0~20000nm)
吸收轴角度/偏光轴角度
透过率,色度(La、b),偏光度
快轴慢轴角度
单波段(550nm为主)/多波段测试(380nm~nm为主)
内应力(此功能软件开发中)
所谓移相是指两种同频的信号,以其中的一路为参考,另一路相 对于该参考作超前或滞后的移动,即称为是相位的移动。两路信号的 相位不同,便存在相位差,简称相差。若我们将一个信号周期看作是 360,则相差的范围就在0°~360°。:两个同频信号之间的移相, 是电子行业继电保护领域中模拟、分析问题的一个重要手段,利用移 相原理可以制作校验各种有关相位的仪器仪表、继电保护装置的信号 源。因此,移相技术有着特别广的实用价值。我们知道,将参考信号整 形为方波信号,并以此信号为基准,延时产生另一个同频的方波信号, 再通过波形变换电路将方波信号还原成正弦波信号。相位差测试仪:偏光片相位差测试仪。
性能可靠:对正弦/三角/梯形波/方波的相位差进行精密测量;高度集成,精度高;参数指标:输入信号波形正弦/三角/梯形波/方波输入阻抗1MΩ相位范围0°to360°or±180°频率范围10Hz~99Hz幅度范围~250V分六个量程,自动选择量程测量精度相位测量精度±1°(典型值正弦波:10Hz-99Hz)相位分辨率°相位重复性±°或更好频率测量精度±频率分辨率幅度精度±幅度分辨率1mV、、环境特性工作温度0℃~+50℃相对湿度≤90%(40℃)存储温度-30℃~+70℃供电电源交流220V±10%,50Hz±5%,功率小于75W机箱尺寸3U,19″标准机箱(上机架)482mm(宽)x370(深)x150mm(高)测相位差原理分析一般测量相位差有如下两种方法:方法1::将两路同频不同相的方波信号异或后得到的脉冲宽度t与方波信号的周期T的比值(占空比),即对应为两信号的相位差,如下所示:异或测量相位差的原理方法2:通过捕获处理后的两通道的方波,就可计算出相位。对应样品尺寸:可定制,数据输出:电脑连接。江苏补偿膜光轴角相位差测试仪厂家直销
测量波段可升级为380nm~780nm。江苏补偿膜光轴角相位差测试仪厂家直销
相位测量技术的研究由来已久。最早的研究和应用领域是数学矢量分析、物理圆周运动和振动。随着电子技术和计算机技术的发展,相位测量技术得到了迅速的发展。目前,相位测量技术更加完善,测量方法和理论更加成熟,相位测量仪器已经实现了系列化和商品化。一种
现代相位测量技术的发展可分为三个阶段:第 一阶段是早期的阻抗法、和差法、三电压法、对比法和平衡法。虽然方法简单,但测量精度较低,第二阶段是数字化
第三阶段是充分利用计算机和智能虚拟测量技术,使设计过程大 大简化,功能增强,使相应的产品更加精确和实用。同时,各种新的算法也出现了。
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