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上海Nanoscribe增材制造PPGT2 纳糯三维科技供应

单价: 面议
所在地: 上海市
***更新: 2022-06-30 01:13:15
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产品详细说明

    采用增材制造技术的情况下,导管的设计空间得以提升,例如可以设计为拥有螺旋形状的结构,可以将导管横截面设计为多边形,也可以在部件内集成多个导管,至少一个可具有圆形横截面,还可以再导管内表面上制造一组凸起的表面特征,这组凸起的表面特征可以延伸到导管的内部区域中。与传统设计及制造方式相比,3D打印导管可以设计为复杂的形状、轮廓和横截面,这是使用常规减法制造技术(例如,钻孔)无法实现的。在设计时可以将冷却部件设计成更接近理想的几何形状,从而改进流体系统的热性能。另外,3D打印技术能够有效控制导管的内表面光洁度及其特征,起到影响流体的流动特性的作用,上海Nanoscribe增材制造PPGT2,上海Nanoscribe增材制造PPGT2,上海Nanoscribe增材制造PPGT2,通过改变导管的内表面特征,可以改变流动特性(例如湍流),这是传统设计的导管所无法实现的。 Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技(上海)有限公司为您深度解读增材制造技术。上海Nanoscribe增材制造PPGT2

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    Nanoscribe是一家德国双光子增材制造系统制造商,2019年6月25日,南极熊从外媒获悉,该公司近日推出了一款新型的机器QuantumX。该新的系统使用双光子光刻技术制造纳米尺寸的折射和衍射微光学元件,其尺寸可小至200微米。根据Nanoscribe的联合创始人兼CSOMichaelThiel博士的说法,“Beer's定律对当今的无掩模光刻设备施加了强大的限制,QuantumX采用双光子灰度光刻技术,克服了这些限制,提供了前所未有的设计自由度和易用性,我们的客户正在微加工的前沿工作。“Nanoscribe成立于卡尔斯鲁厄理工学院,现在在上海设有子公司,在美国设有办事处。该公司在财务和技术上获得了蔡司的大力支持,蔡司是德国历史非常悠久,规模比较大的光学系统制造商之一。纳米标记系统基于双光子吸收,这是一种分子被激发到更高能态的过程。为了使用双光子工艺制造3D物体,使用含有单体和双光子活性光引发剂的凝胶作为原料。将激光照射到光敏材料上以形成纳米尺寸的3D打印物体,其中吸收的光的强度比较高。PhotonicProfessionalGT是Nanoscribe此前推出的一款产品,在科学研究中得到了广的应用,并在哈佛大学纳米系统中心,加州理工学院,伦敦帝国理工学院,苏黎世联邦理工大学和庆应义塾大学使用。上海高分辨率增材制造无掩膜光刻如需了解增材制造的信息,请咨询咨询Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技(上海)有限公司。

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Nanoscribe的Photonic Professional GT2双光子无掩模光刻系统的设计多功能性配合打印材料的多方面选择性,可以实现微机械元件的制作,例如用光敏聚合物,纳米颗粒复合物,或水凝胶打印的远程操控可移动微型机器人,并可以选择添加金属涂层。此外,微纳米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微机电系统(MEMS)。双光子灰度光刻技术可以一步实现真正具有出色形状精度的多级衍射光学元件(DOE),并且满足DOE纳米结构表面的横向和纵向分辨率达到亚微米量级。由于需要多次光刻,刻蚀和对准工艺,衍射光学元件(DOE)的传统制造耗时长且成本高。而利用增材制造即可简单一步实现多级衍射光学元件,可以直接作为原型使用,也可以作为批量生产母版工具。

    Nanoscribe成立于2007年,作为卡尔斯鲁厄理工学院研究小组的分拆,目前,Nanoscribe已经成为纳米和微米3D打印的出名企业,并且在许多项目上都有所作为。Nanoscribe的激光光刻系统用于3D打印世界上特别小的强度高的3D晶格结构,它使用高精度激光来固化光刻胶中具有小至千分之一毫米特征的结构。换句话说,激光使基于液体的材料的小液滴内部的特定层硬化。为了进一步适应日益增长的业务,Nanoscribe还宣布将把设施搬迁到KIT投资3000万欧元的蔡司创新中心。此举将于2019年底举行,将有助于推动微型3D打印领域的更多创新。Hermatschweiler补充说:“通过这个创新中心能够与KIT靠的更近,卡尔斯鲁厄不断为Nanoscribe等公司提供创新和成功发展的理想环境。”ORNL的科学家们使用Nanoscribe的增材制造系统来构建世界上特别小的指尖陀螺,该迷你玩具的宽度只为100微米(与人类头发的宽度相当)。除了用于无线技术,Nanoscribe的3D打印技术还可用于制造高精度的光学微透镜,衍射光学元件,用于生物打印的纳米级支架等等。 根据ASTM标准 ,增材制造又称为3D打印或快速成型。

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Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上特别高分辨率的3D无掩模光刻技术,用于快速,特别高精度的微纳加工,可以轻松3D微纳光学制作。可以搭配不同的基板,包括玻璃,硅晶片,光子和微流控芯片等,也可以实现芯片和光纤上直接打印。我们的3D微纳加工技术可以满足您对于制作亚微米分辨率和毫米级尺寸的复杂微机械元件的要求。3D设计的多功能性对于制作复杂且响应迅速的高精度微型机械,传感器和执行器是至关重要的。基于双光子聚合原理的激光直写技术,可适用于您的任何新颖创意的快速原型制作;也适合科学家和工程师们在无需额外成本增加的前提下,实现不同参数的创新3D结构的制作。走进Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技(上海)有限公司,学习增材制造工艺原理。上海高分辨率增材制造无掩膜光刻

Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技(上海)有限公司欢迎你一起探讨增材制造技术的现状和未来趋势。上海Nanoscribe增材制造PPGT2

Nanoscribe公司PhotonicProfessionalGT2高速3D打印系统制作的高精度器件图登上了刚发布的商业微纳制造杂志“CommercialMicroManufacturingmagazine”(CMM)。文章中介绍了高精度3D打印,并重点讲解了先进的打印材料是如何让双光子聚合技术应用锦上添花的。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系统把双光子聚合技术融入强大了3D打印工作流程,实现了各种不同的打印方案。双光子聚合技术用于3D微纳结构的增材制造,可以通过激光直写而避免使用昂贵的掩模版和复杂的光刻步骤来创建3D和2.5D微结构制作。上海Nanoscribe增材制造PPGT2

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