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Nanoscribe作为一家纳米，微米和中尺度高精度结构增材制造**，一直致力于开发和生产3D 微纳加工系统和无掩模光刻系统，以及自研发的打印材料和特定应用不同解决方案。Nanoscribe成立于 2007 年，是卡尔斯鲁厄理工学院 (KIT) 的衍生公司，上海TPP增材制造工艺，上海TPP增材制造工艺。在全球前列大学和创新科技企业的中，有超过2,500 多名用户在使用我们突破性的 3D 微纳加工技术和定制应用解决方案。 Nanoscribe 凭借其过硬的技术背景和市场敏锐度奠定了其市场的主导地位，并以高标准来要求自己以满足客户的需求。 Nanoscribe 将在未来进一步扩大产品组合实现多样化，以满足不用客户群的需求，上海TPP增材制造工艺。增材制造（Additive Manufacturing，AM）技术是采用材料逐渐累加的方法制造实体零件的技术。上海TPP增材制造工艺
Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2双光子无掩模光刻系统的设计多功能性配合打印材料的多方面选择性，可以实现微机械元件的制作，例如用光敏聚合物，纳米颗粒复合物，或水凝胶打印的远程操控可移动微型机器人，并可以选择添加金属涂层。此外，微纳米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微机电系统（MEMS）。双光子灰度光刻技术可以一步实现真正具有出色形状精度的多级衍射光学元件（DOE），并且满足DOE纳米结构表面的横向和纵向分辨率达到亚微米量级。由于需要多次光刻，刻蚀和对准工艺，衍射光学元件（DOE）的传统制造耗时长且成本高。而利用增材制造即可简单一步实现多级衍射光学元件，可以直接作为原型使用，也可以作为批量生产母版工具。上海Nanoscribe增材制造Quantum XNanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技（上海）有限公司为您讲解3D打印增材制造技术。
相较于传统生产方式，增材制造能有效降低生产成本与进入门槛。举例来说，制造业应用广的CNC 数控机床加工在全球范围内存在人才短缺问题，且其必备的专业操作人员是沉重的人力成本来源，这也是中小型生产厂家难以与规模较大的竞争对手匹敌的重要原因。 与之形成对比的增材制造技术，对于专业操作人员的要求则不那么高，因为增材设备更加简单、编程相对容易，也因此长期来说操作成本更低。此外，增材制造突破生产的地域限制，您可以在瑞士进行编程设计后，发到国内或其他地区生产，而这在需要诸多工装夹具的传统制造领域是难以实现的。传统制造中更换加工零件既耗时又费力。举例而言，CNC数控机床经常需要花费数十分钟到几个小时才能完成零件的替换。而增材制造可以一次成型多个产品，不同制造作业间可真正达到无缝替换，而每次替换的时间至多可缩短到几分钟内。
Nanoscribe作为一家纳米，微米和中尺度高精度结构增材制造**，一直致力于开发和生产和无掩模光刻系统，以及自研发的打印材料和特定应用不同解决方案。在全球顶端大学和创新科技企业的中，有超过2,500多名用户在使用我们突破性的3D微纳加工技术和定制应用解决方案。Nanoscribe成立于2007年，是卡尔斯鲁厄理工学院(KIT)的衍生公司。Nanoscribe凭借其过硬的技术背景和市场敏锐度奠定了其市场优先领导地位，并以高标准来要求自己以满足客户的需求。Nanoscribe将在未来在基于双光子聚合技术的3D微纳加工系统基础上进一步扩大产品组合实现多样化，以满足不用客户群的需求。走进Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技（上海）有限公司学习增材制造技术。
增材制造技术使用能源有激光、电子束、紫外光等，采用的材料有树脂、塑料、金属、陶瓷、蜡等，因其采用的成型方法和使用的成型材料以及依靠的凝结热源不同，现在主要分为四类:分层实体制造(LOM)工艺技术；立体光刻(SLA)工艺技术；选择性激光烧结(SLS)工艺技术；熔融沉积成型(FDM)工艺技术。无模具快速自由成型，制造周期短，小批量零件生产成本低。增材制造技术因为只需要有加工原料和加工设备就能够进行产品加工，不需要机械加工和工装模具，可以实现一次成型，节约了零件的不同工序加工和组装消耗的时间，进行单件小批量的生产时，增材制造的成本低。传统加工制造需要原料采购、准备，并且加工过程中还需要不同工序的轮换加工，加工完后还需要进行零件的组装等等，而这无形之间延长了产品的生产周期，同时也不经济。 想要了解增材制造和传统减材制造的区别，请咨询Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技（上海）有限公司。上海科研增材制造三维光刻
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随着各行各业的发展及科技的进步，人们可以用3D打印创建在人体内传导药物的载体，可以用3D打印来建造房子。人们还可以用3D打印创作出精美的珠宝首饰和设计，甚至可以用这项技术做出巨大的艺术雕塑。Nanoscribe 公司专注于微观3D打印技术，通过该用户可以得到尺寸微小的高质量产品。全新推出的Quantum X平台新型超高速无掩模光刻技术主要是基于Nanoscribe双光子灰度光刻技术（2GL®）。该技术将灰度光刻的***性能与双光子聚合的精确性和灵活性完美结合，使其同时具备高速打印，完全设计自由度和超高精度的特点。从而满足了**复杂增材制造对于优异形状精度和光滑表面的极高要求。这种具有创新性的增材制造工艺缩短了企业的设计迭代，打印样品结构既可以用作技术验证原型，也可以用作工业生产上的加工模具。上海TPP增材制造工艺
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