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海南增材制造无掩膜激光直写 纳糯三维科技供应

单价: 面议
所在地: 上海市
***更新: 2022-03-31 01:16:37
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产品详细说明

Quantum X shape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系统,用于快速原型制作和晶圆级批量生产,以充分挖掘3D微纳加工在科研和工业生产领域的潜力。该系统是基于双光子聚合技术(2PP)的专业激光直写系统,可为亚微米精度的2.5D和3D物体的微纳加工提供极高的设计自由度。Quantum X shape可实现在6英寸的晶圆片上进行高精度3D微纳加工,海南增材制造无掩膜激光直写。这种效率的提升对于晶圆级批量生产尤其重要,这对于科研和工业生产领域应用有着重大意义。它作为理想的快速成型制作工具,可实现通过简单工作流程进行高精度和高设计自由度的制作,海南增材制造无掩膜激光直写。作为2019年推出的头一台双光子灰度光刻 (2GL ®) 系统Quantum X的同系列产品,海南增材制造无掩膜激光直写,Quantum X shape提升了3D微纳加工能力,即完美平衡精度和速度以实现高精度增材制造,以达到高水平的生产力和打印质量。总而言之,工业级Quantum X 打印系统系列提供了从纳米到中观尺寸结构的非常先进的微制造工艺,适用于晶圆级批量加工。Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技(上海)有限公司邀您一起探讨增材制造技术的行业发展。海南增材制造无掩膜激光直写

海南增材制造无掩膜激光直写,增材制造

Nanoscribe公司PhotonicProfessionalGT2高速3D打印系统制作的高精度器件图登上了刚发布的商业微纳制造杂志“CommercialMicroManufacturingmagazine”(CMM)。文章中介绍了高精度3D打印,并重点讲解了先进的打印材料是如何让双光子聚合技术应用锦上添花的。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系统把双光子聚合技术融入强大了3D打印工作流程,实现了各种不同的打印方案。双光子聚合技术用于3D微纳结构的增材制造,可以通过激光直写而避免使用昂贵的掩模版和复杂的光刻步骤来创建3D和2.5D微结构制作。海南增材制造无掩膜激光直写如需了解增材制造技术的应用场景请咨询Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技(上海)有限公司。

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    一般通俗地称增材制造为3D打印,而事实上3D打印只是增材制造工艺的一种,它不是准确的技术名称。增材制造指通过离散-堆积使材料逐点逐层累积叠加形成三维实体的技术。根据它的特点又称增材制造,快速成形,任意成型等。增材制造通过降低模具成本,减少材料,减少装配,减少研发周期等优势来降低企业制造成本,提高生产效益。具体优势如下:与传统的大规模生产方式相比,小批量定制产品在经济上具有吸引力;直接从3DCAD模型生产意味着不需要工具和模具,没有转换成本;以数字文件的形式进行设计方便共享,方便组件和产品的修改和定制;该工艺的可加性使材料得以节约,同时还能重复利用未在制造过程中使用的废料(如粉末、树脂)(金属粉末的可回收性估计在95-98%之间);新颖、复杂的结构,如自由形式的封闭结构和通道,是可以实现的,使得部件的孔隙率非常低;订货减少了库存风险,没有未售出的成品,同时也改善了收入流,因为货物是在生产前支付的;分销允许本地消费者/客户和生产者之间的直接交互。

    Nanoscribe在2021年6月30日推出了头一个用于熔融石英玻璃微结构的3D微加工商用高精度增材制造工艺和材料——GlassPrintingExplorerSet。新型光树脂GP-Silica是GlassPrintingExplorerSet的中心,与Glassomer联合研究开发。据说这是目前只有一种用于熔融石英玻璃微细加工的光树脂,因为高光学透明度以及出色的热、机械和化学性能脱颖而出,为探索生命科学、微流体、微光学、材料工程和其他微技术领域的新应用开辟了机会。GlassPrintingExplorerSet能够高精度3D打印,并且具有耐高温性、机械和化学稳定性以及光学透明度。熔融石英玻璃的双光子聚合(2PP)技术展现了玻璃产品的出色性能,推动了对生命科学、微流体、微光学和其他领域的探索。瑞士弗里堡工程与建筑学院助理教授兼图形打印系主任NicolasMuller称,GP-Silica研究制造复杂微流体系统方面具有巨大潜力,尽管所需的热后处理要求很高。 双光子聚合技术用于3D微纳结构的增材制造。

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随着各行各业的发展及科技的进步,人们可以用3D打印创建在人体内传导药物的载体,可以用3D打印来建造房子。人们还可以用3D打印创作出精美的珠宝首饰和设计,甚至可以用这项技术做出巨大的艺术雕塑。Nanoscribe 公司专注于微观3D打印技术,通过该用户可以得到尺寸微小的高质量产品。全新推出的Quantum X平台新型超高速无掩模光刻技术主要是基于Nanoscribe双光子灰度光刻技术(2GL®)。该技术将灰度光刻的***性能与双光子聚合的精确性和灵活性完美结合,使其同时具备高速打印,完全设计自由度和超高精度的特点。从而满足了**复杂增材制造对于优异形状精度和光滑表面的极高要求。这种具有创新性的增材制造工艺缩短了企业的设计迭代,打印样品结构既可以用作技术验证原型,也可以用作工业生产上的加工模具。影响增材制造技术的因素你了解吗?欢迎咨询Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技(上海)有限公司。上海超高速增材制造无掩膜光刻

Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技(上海)有限公司为您浅析增材制造技术在制造业中的特点与应用。海南增材制造无掩膜激光直写

    QuantumX新型超高速无掩模光刻技术的中心是Nanoscribe独有的双光子灰度光刻技术(2GL®)。该技术将灰度光刻的出色性能与双光子聚合的精确性和灵活性完美结合,使其同时具备高速打印,完全设计自由度和超高精度的特点。从而满足了高级复杂增材制造对于优异形状精度和光滑表面的极高要求。这种具有创新性的增材制造工艺很大程度缩短了企业的设计迭代,打印样品结构既可以用作技术验证原型,也可以用作工业生产上的加工模具。另外,Nanoscribe双光子灰度光刻微纳打印系统技术要点,这项技术的关键是在高速扫描下使激光功率调制和动态聚焦定位达到精细同步,这种智能方法能够轻松控制每个扫描平面的体素大小,并在不影响速度的情况下,使得样品精密部件能具有出色的形状精度和超光滑表面。该技术将灰度光刻的出色性能与双光子聚合的精确性和灵活性*结合,使其同时具备高速打印,完全设计自由度和超高精度的特点。从而满足了高级复杂增材制造对于优异形状精度和光滑表面的极高要求。 海南增材制造无掩膜激光直写

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