反射镜的膜分类。金属膜:铝膜金膜银膜。经济实惠,可以在宽波长谱区内使用。可以在所有入射角度下使用。膜有吸收、反射率稍微降低。容易受损(金膜反射膜无保护膜)。用于简单的光学系统、使用低输出激光的光学系统、白光照明系统或成像系统、红外光学系统(金膜反射镜)。宽带多层介质膜:反射率高可以在宽波长谱区使用。膜没有光的吸收。膜较硬不易受损。用于精密光学系统(微弱光或低损失的光学系统)、1W以内的激光光学系统、使用多波长激光的光学系统。激光用多层介质膜:反射率非常高,损失很少。膜没有光的吸收,激光损伤阈值很高。不易受损,投影仪反射镜采购。波长范围窄,入射角为45°时使用,投影仪反射镜采购。用于使用激光的光学系统,投影仪反射镜采购、强激光光学系统显微镜上的反射镜的作用是改变光的强度,作用是使人看到的像的亮度适中(增强或减弱)。投影仪反射镜采购
GFAg银膜反射镜:从可见光到近红外波段,平均反射率高。在银膜上镀了一层保护膜,可防止氧化,延长使用寿命。与铝膜反射镜相比,在可见光到近红外波段反射率更高。与介质膜反射镜相比,反射率受入射角度的影响很小,可用于各种入射角度。镀了保护膜,用布等擦拭时也不容易划伤。GFM宽带介质膜反射镜:宽带介质膜反射镜在宽波段内反射率较高,适用于调波长激光器和白光。介质膜反射镜对入射角比较敏感,未说明的情况下,默认的介质膜反射镜的入射角均为45°。介质膜几乎没有吸收,可以承受连续的激光照射。投影仪反射镜采购购买反射镜时要根据自身需求去购买,而不是随便买。
飞秒激光用反射镜分为低分散反射镜和负分散反射镜两种。低分散反射镜在脉宽100fs以下的超短脉冲激光中使用的波长分散也可以做到很小,通过考虑波长分散、波长范围、激光损伤阈值的优化特殊膜系设计,可以抑制多个反射镜的反射引起的脉冲宽度变宽的影响。此类反射镜也可用于飞秒时间分辨光谱装置的光学系统或飞秒激光导入显微镜系统。需要注意的是:在光线以45°以外的角度入射时,可能无法做到波长分散补偿。P偏光与S偏光相比,反射率变低,反射谱区变窄。负分散反射镜是用于波长分散为负的特殊反射镜,主要用于飞秒激光谐振腔的分散补偿,在谐振腔内,使光线在谐振腔内的两枚负分散反射镜之间往返数次,可以抵消谐振腔内的波长分散。需要注意的是:在使用的过程中光线入射角度需要在0°~20°之间,在其他角度入射时可能无法做到分散补偿。
光在反射镜反射后相位会变化吗?通常都会有半波损失——相位改变180度,但若利用全反射来做镜面(或更一般地说,光在光密质中反射,而以光疏介质当反射面),那时就不会有半波损失——相位不变。入射光在光疏媒质中前进,遇到光密媒质界面时,在掠射或垂直入射2种情况下,在反射过程中产生半波损失,这只是对光的电场强度矢量的振动而言。如果入射光在光密媒质中前进,遇到光疏媒质的界面时,不产生半波损失。不论是掠射或垂直入射,折射光的振动方向相对于入射光的振动方向,永远不发生半波损失。反射镜的焦距定义:垂直于抛物面中心的平行入射光焦点到反射镜抛物面中心的距离。
碳化硅反射镜的烧结工艺:SiC陶瓷材料的制备工艺方式主要有:热压烧结工艺、反应烧结工艺、常压烧结工艺和化学气相沉积工艺(CVD)。其中热压烧结工艺由于工艺过程的限制,不适合制备形状复杂的反射镜镜坯。常压烧结工艺烧结过程镜坯的收缩率达到10%~15%,这种工艺对于制备精密尺寸的近净尺寸成型不利。CVD技术制备SiC质反射镜,是将含有硅源(SiCl4)和碳源(CXHY)的气体共同导入反应炉,合成SiC后沉积在基板上。采用该工艺制备的镜体质量较好,但成本也较高,只有在特殊的情况下应用该技术。反应烧结工艺可以制备大尺寸、形状复杂的SiC反射镜镜坯,并且反应烧结的制备温度相对较低、烧结时间周期短、镜坯制造成本低、烧结完成的结构致密,机械综合性能、热特性较优,符合超大口径反射镜的应用要求。反射镜表面不一定是平的,存在曲面反射的反射镜。武汉直角棱镜反射镜
该按照怎样的标准挑选反射镜?投影仪反射镜采购
反射镜光学材料性能要求:(1)高的机械强度可避免镜体的机械变形,因此要求材料具备尽可能高的弹性模量、比刚度及尽可能小的泊松比。(2)良好的热性能可避免温度变化引起的热变形,所以,反射镜基体材料应具备较小的热膨胀系数和尽可能大的导热系数。(3)可加工性。要求反射镜基体材料通过光学抛光,可获得高质量的表面粗糙度。(4)高的化学稳定性。在加工过程中,或者长期保存在自然环境下,材料不被水汽或其他气氛侵蚀,以确保光学镜面的质量不受损害。(5)反射镜基体材料必须具备高度的均匀性。这种均匀性包括密度、机械性质及热性质。任何一方面的不均匀性都将对反射镜的加工及使用带来严重影响。(6)其他要求,例如低的制造成本、无毒及环境友好等。投影仪反射镜采购
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