[VIP第1年] 指数:3
扩散型半导体应变片
这种应变片是将 P型杂质扩散到一个高电阻N型硅基底上，黄浦区激光干涉仪共焦技术，形成一层极薄的P型导电层，然后用超声波或热压焊法焊接引线而制成（图2）。它的优点是稳定性好，机械滞后和蠕变小，电阻温度系数也比一般体型半导体应变片小一个数量级。缺点是由于存在P-N结，当温度升高时，绝缘电阻大为下降。半导体应变片是将单晶硅锭切片、研磨、腐蚀压焊引线，结尾粘贴在锌酚醛树脂或聚酰亚胺的衬底上制成的，黄浦区激光干涉仪共焦技术。是一种利用半导体单晶硅的压阻效应制成的一种敏感元件，黄浦区激光干涉仪共焦技术。新型固态压阻式传感器中的敏感元件硅梁和硅杯等就是用扩散法制成的。 皮 米 精 度 位 移 传 感 器。黄浦区激光干涉仪共焦技术
(3)非接触测头以及各种扫描探针显微镜。航空航天行业对此已经提出迫切要求，这是今后坐标测量机发展的关键技术。目前接触式测头已完全被国外所垄断，非接触测头还没有发展成熟，我们有参与竞争的机遇。以前较多采用的激光三角法原理受到很多限制，难以有突破性进展，但可在原理创新上下功夫。应该突破0.1～0.5μm分辨率。
(5)新器件，新材料。过去，科研评价体系存在偏重于整机和系统，忽视材料和器件的趋向。新的突破点可能出现在新光源、新型高频探测器。目前探测器的响应频率只有10的9次方，而光频高达10的14次方，目前干涉仪实际上是起着混频器的作用，适应探测器的不足(如果探测器的响应果真能超过光频，干涉仪也就没有用了)。如果探测器的性能得到显著提高，对于通讯也是很大的突破。 浦东新区激光干涉仪表面粗糙度使其可以测量长达40米的距离。
薄膜型半导体应变片
这种应变片是利用真空沉积技术将半导体材料沉积在带有绝缘层的试件上或蓝宝石上制成的。它通过改变真空沉积时衬底的温度来控制沉积层电阻率的高低，从而控制电阻温度系数和灵敏度系数。因而能制造出适于不同试件材料的温度自补偿薄膜应变片。薄膜型半导体应变片吸收了金属应变片和半导体应变片的优点，并避免了它的缺点，是一种较理想的应变片。
外延型半导体应变片
这种应变片是在多晶硅或蓝宝石的衬底上外延一层单晶硅而制成的。它的优点是取消了P-N结隔离，使工作温度大为提高(可达300℃以上)。
升降变差
1 能耐受机械力作用的仪表、仪表正面部分比较大尺寸小于75MM 的可携式仪表、正面比较大尺寸小于40MM 的安装式仪表、用直流进行检验的电磁系和铁磁电动系仪表，其指示值的升降变差不应超过表7 规定值的1.5 倍。其它仪表的升降变差不应超过表的规定。
2 测定升降变差时，应在极性不变(当用直流检验时)和指示器升降方向不变的前提下，首先使被检表指示器从一个方向平稳地移向标度尺某一个分度线，读取标准表的读数；然后再从另一个方向平稳地移向标度尺的同一个分度线，再次读取标准表的读数，标准表两次读数之差即为升降变差。允许根据被检表读数之差测定升降变差，这时应维持被测量之值不变。测定仪表升降变差时应遵守规定，若被测之量连续可调，可与测定基本误差一同进行。 检测电机的轴承误差。
频率影响
1 当频率自额定值偏离±10%(但对相位表和功率因数表为±2%，对单相无功功率表为±5%)时，由此所引起的仪表指示值的改变应不超过表7 中的规定值。如果在仪表上注明额定频率范围，则在此范围内的任一频率下，仪表的基本误差都应不超过规定值。如果在仪表上除注明额定频率外，还注明有扩大的频率范围时，则在此范围内的任一频率下，仪表的基本误差应不超过表7 中规定值的两倍。仪表辅助电路的电源，当其频率自额定值偏离±2%时，由此引起的仪表指示值的改变，应不超过表7 规定值的一半。
2 检验频率的影响时，应遵守有关规定(对频率的规定除外)，且应除去变差影响。试验是在标度尺的几何中心附近和上量限附近的两点分度线上进行。相位表在额定电流下进行，功率表在额定功率因数下进行。 为展示IDS3010在测量短距离和长距离位移方面的优势。黄浦区激光干涉仪仪器
能够测量液体的表面运动，开启了在各科学和工业领域实现独特应用的可能性。黄浦区激光干涉仪共焦技术
一次绕组可调，二次多绕组电流互感器。这种电流互感器的特点是变比量程多，而且可以变更，多见于高压电流互感器。其一次绕组分为两段，分别穿过互感器的铁心，二次绕组分为两个带抽头的、不同准确度等级的独自绕组。一次绕组与装置在互感器外侧的连接片连接，通过变更连接片的位置，使一次绕组形成串联或并联接线，从而改变一次绕组的匝数，以获得不同的变比。带抽头的二次绕组自身分为两个不同变比和不同准确度等级的绕组，随着一次绕组连接片位置的变更，一次绕组匝数相应改变，其变比也随之改变，这样就形成了多量程的变比。黄浦区激光干涉仪共焦技术
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